发明名称 IMPATT diode.
摘要 <p>Auf einem Si-Substrat (1) ist eine Si-SiGe-Heterostruktur aufgewachsen. Die SiGe-Schicht (2) befindet sich vorzugsweise in der Generationszone der IMPATT-Diode. Anstatt der SiGe-Schicht (2) ist es außerdem möglich, ein Si/SiGe-Übergitter aufzuwachsen.</p>
申请公布号 EP0262346(A1) 申请公布日期 1988.04.06
申请号 EP19870111422 申请日期 1987.08.07
申请人 LICENTIA PATENT-VERWALTUNGS-GMBH 发明人 JORKE, HELMUT, DIPL.PHYS.;LUY, JOHANN-FRIEDRICH, DIPL.-ING.
分类号 H01L29/165;H01L29/864 主分类号 H01L29/165
代理机构 代理人
主权项
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