| 主权项 |
1.一种用于制造二苯胺之方法,系令苯 胺与氧化铝触媒相接触而得,所用之 氧化铝触媒在其总孔际度中至少大约 30体积%呈细孔型态、直径介于大 约120至大约200 之间、而以SO4 型态测得之含硫量则小于大约0.02 重量%。2.如申请惠利范围第1.项之方法;其中 之触媒尚经三氟化硼及三氮化硼-苯 胺盐中之至少一种予以预处理。3.如申请专利范 围第1.项之方法,其反 应系放大约380至大约475℃之间 进行者。4.如申请专利范围第3.项之方法,其反 应系放大约400至大约465℃之间 进行者。5.如申请专利范围第1.项之方法,其中 之触媒在其总孔际度中至少有大约 40体积%系呈细孔型态,而其直径 则介于大约120至大约200 之间。6.如申请专利范围 第1.项之方法,其中 之触媒在其总孔际度中至少有大约 50体积%呈细孔型态,而其直径则 介于大约120至大约200 之间。7.一种用于制造三苯 胺之方法,包含的 步骤为: A利用三氮化硼及三氟化硼一苯胺盐 中之至少一种成份对触媒作预处理 ,此种触媒在其总孔际度中至少有 大约50%体积系呈细孔型态,其 直径介于大约120至大约200 之 间,且以AO4型态测得之含硫量 低于大约0.02重量%;以及 B令苯胺与经过上述处理之触媒在大 约400至大约465℃之间相接触 。 |
