发明名称 | 在制铝电解槽中控制添加固态电解质的工艺和设备 | ||
摘要 | 本发明涉及在制铝电解槽中控制添加固态电解质的工艺。按照这个工艺,为了求出电解液的高度,确定标定值HBC并周期性地测定电解液液面高度,从而由其推导出电解液层HB和液态铝层HM的总度高HT,并测定阴极基片上的液态铝层的厚度HM,由HM值推导出电解液层的高度HB,HB=HT-HM,并且将HB值与标定值HBC相对照,进而根据比较结果为电解槽添加基液或排出电解液。 | ||
申请公布号 | CN88102179A | 申请公布日期 | 1988.11.23 |
申请号 | CN88102179 | 申请日期 | 1988.04.20 |
申请人 | 皮奇尼铝业公司 | 发明人 | 贝诺特·苏尔蒙特;阿雷恩·帕特诺加 |
分类号 | C25C3/14;C25C3/20 | 主分类号 | C25C3/14 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 余刚 |
主权项 | 1、用于控制电解槽中固态电解质添加量的工艺,该电解槽是根据霍尔-赫劳尔特(Hall-H′eroult)工艺电解溶解于熔融态冰晶石3中的氧化铝电解液制取铝,该电解液位于含碳的阴极基片1和多块含碳的阳极4之间,阴极基片1上形成了液态铝层2,阳极4由阳极框架33支承,电解液高度相对于固定的上部构件11来调节,该工艺的特征在于,考虑到电解液面高度的限制落差约为+1cm,确定了电解液高度的标定值HBC,电解槽中电解液面高度是在一个固定的基准点PF的基础上被周期性地确定的,相对于含碳的阴极基片PF为已知的,由电解液面高度可推导出电解液层HB和液态铝层HM的总高度HT,测定阴极基片上液态铝层的厚度为HM,由HM可推导出电解液层的高度HB,HB=HT-HM,然后将HB值与标定值HBC作对照,如果上述对照显示电解液不足,可从一个贮存装置中将基液添加物输入到至少一个开口中,该开口是由通常覆盖电解槽的固化电解质薄壳所制成的。如果上述对照显示电解液过剩,为了促使一个电解流出液的排出,即可启动报警器。 | ||
地址 | 法国巴黎 |