| 主权项 |
1.一种具有下述构造之化合物, 其中R1为氢原子,氟原子或甲基而 R2为一种C1-C3 烷基,一种C1-C5烷氧基,一种氯 (C2-C4十烷氧基,一种二氯(C2-C 4十烷氧基,一种环(C3-C7)烷氧基, 一种苯氧基,一种C1-C5 烷基硫基 或一种二(C1-C5)烷氧氨基。 2﹒如申请专利范围第1项所记载之化合物, 其中R1为氢原子而R2为(C1-C5)烷 氧基,一种氯(C2-C4)烷氧基,一种 二氯(C2-C4)烷氧基,一种环(C3- C7)烷氧基,一种苯氧基或一种C1- C5烷基硫基。 3.如申请专利范围第1项所记载之化合物, 该化含物为2-[4-氯-3(2-氯乙 氧基羰基甲基硫基)苯基]-4,5,6 ,7-四氢-2H-异 -1,3-二 酮。 4﹒如申请专利范围第1项所记载之化合物, 该化合物为2-(4-氯-3-环己氧基 羰基甲基硫基苯基)-4,5,6,7- 四氢-2H-异 -1,3-二酮。 5.如申请专利范围第1项所记载之化合物, 该化合物为2-(4-氯-3-环己氧基 羰基甲基硫基苯基)-4,5,6,7- 四氢-2H-异 -1,3-二酮。 6﹒一种下述构造式化合物之制法, 其中R1为氢原子,氟原子或甲基而 R2为一种C1-C3 烷基,一种C1-C5烷氧基,一种氯 (C2-C4)烷氧基,一种二氯(C1-C 4)烷氧基,一种环(C3-C7)烷氧基, 一种苯氧基,一种C1-C5烷基硫基 或一种二(C1-C5)烷氧氨基,该制法 包括: 将2-(4-氯-3-氢硫基苯基-4, 5,6,,7-四氢-2H-异 -1 ,3-二酮与下述构造式之化合物反应; 式中R1和R2所示意义悉如上述,Y 为氯原子,溴原子或碘原子。 7.一种除草剂组成物包括如申请专利范围第 1项所记载之化合物为除草剂有效量的活 性成分以及一种惰性载物或稀释剂。 8﹒一种控制杂草生长的方法,包括施与如申 请专利范围第1项所记载之具有除草剂有 效量之化合物于杂草生长或将要生长之土 地上。 9.如申请专利范围第8项所记载之方法,其 中土地为大豆或玉蜀黍田。 10.2-(4-氯-3-氢硫基苯基)-4, 5,6,7-四氢-2H-异 -1, 3-二酮。 11.2-氯-5-氨基硫基酚。 |
