发明名称 新颖╳啶基嘧啶衍生物其制法及其植物病害防治剂组成物
摘要
申请公布号 TW114482 申请公布日期 1989.06.11
申请号 TW075105570 申请日期 1986.11.24
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 山下典久;井上悟;加藤次裕;前田清夫;城下正男;实光穰
分类号 A01N43/40;A01N43/54;C07D401/04 主分类号 A01N43/40
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒如下式呲啶基嘧啶衍生物或其盐 式中R1为C1-7,直链烷基,或C3-4分 歧链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2共为聚亚甲基十CH2+4 而可呈环状; R4为C1-7,直链烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R5为氢,卤素,C1-4直链烷基或 乙醯,或C4及C5共为聚亚甲基十CH2 +4而可呈环状; C6为氢,C1-7直链烷氧基,C3- 4分歧链烷氧基,C3-5烯氧基,C3-4 ,2-卤乙氧基,二卤乙氧基,2-甲氧 乙氧基,甲硫基或CH2R7而R7为氢, 甲基,乙基或丙烯基。 2.依申请专利范围第1项之呲啶基嘧啶衍生 物,其中R1为C1-5烷基,R2及R3各 为氢或甲基,但R2及R3不同时为甲基; R4为C1-4烷基:R5为氢,卤素,甲基 或乙基,或R4与R5共为聚亚甲基十CH 2+4,R6为氢,甲基,乙基,正丙基, C1-4烷氧基,C3-4烯氧基C3-4炔氧 基,2-卤乙氧基,二卤乙氧基或甲硫基 3.依申请专利范围第1项之呲啶基嘧啶衍生 物,其中R1为C1-5烷基,R2及R3各 为氢;R4 为C1-4烷基,R6 为氢,卤素或甲基,R5为氢,甲基,乙基 ,C1-4烷氧基,C3-4烯硫基,C3-4 炔氧基,二卤乙氧基或甲硫基。 4.依申请专利范围第1项之呲啶基嘧啶衍生 物,其中R1为甲基,乙基,正丙基,正 丁基,异丁基或正戊基;R2及R3各为氢 ;R4为甲基,乙其或正丙基;R5为氢, 卤素或甲基,R6为氢,甲基,乙基,甲 氧基,乙氧基 正丙氧基,正丁氧基,异 丁氧基,丙烯氧基,丙烯氧基,二氯乙氧 基或甲硫基。 5.依申请专利范围第1项之呲啶基嘧啶衍生 物,其中R1为甲基,乙基,正丙基或正 丁基;R2及R3各为氢;R4甲基;R5 为氢或甲基,R6氢,甲基,乙基,甲氧 基,乙氧基,正丙氧基,正丁氧基,丙炔 氧基或二氯乙氧基。 6.6一正丁氧基-4-甲基-2-(6-甲 基-2-毗啶基)螃啶。 7.6-(2,2一二氯乙氢基)-4-甲基- 2-(6-甲基-2-呲啶基)嘧啶。 8.6-甲氧基-4-甲基-2-(6-正丙 基-2-呲啶基)嘧啶。 9.4-甲基-2-(6-正内基-2-呲啶 基)嘧啶。 10.(6-正丁基-2-嘧啶基)-6-甲氧 基-4-甲基嘧啶。 11.(6-正丁基-2-呲啶基)-4-甲基 嘧啶。 12﹒一种植物病害防冶剂,内含当作有效成 分之有效量如下式呲啶基嘧啶衍生或其盐 及惰性载体 式中R1为C1-7,直链烷基,或C3-4,分 歧链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2共为聚亚甲基(CH2)4 而可呈环状; R4为C1-7直链烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R5为氢,卤素,C1-4直链烷基或 乙醯,或C4及C5共为聚亚甲基十CH2 +4而可呈环状; C6为氢,C1-7直链烷氧基,C3- 4分歧链烷氧基,C3-5烯氧基,C3-4 ,2-卤乙氧基,二卤乙氧基,2-甲氧 乙氧基,甲硫基或CH2R7而R7为氢, 甲基,乙基或丙烯基。 13.一种植物病害防冶剂,内含当作有效成 分之有效量依申请专利范围第2-11项中 任一项之呲啶基嘧啶衍生物或其盐及惰性 载体。 14.一种防治植物病原茵防冶方法,乃对植 物病原菌施用有效量如下式呲啶衍生物: 式中R1R2R3R4R5其R6同申请专利范 围第1项之规定。 15﹒如下式呲啶基嘧啶衍生物之制法 式中R1为C1-7直链烷基,或C3-4分歧 链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2共为聚亚甲基+CH2+4 而可呈环状; R4为C1-7直链烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R5为氢,卤素,C1-4直链烷基或 乙醯,或C4及C5共为聚亚甲基+CH2 +4而可呈环状; R6为氢, 此制法乃含如下式甲基呲啶 衍生物或其 盐 式中R1,R2及R3同上,在硷之存在下 与如下式-氧缩醛生物反应而得 式中R4及R5同上,R8为低烷基。 16﹒如下式呲啶基啶啶衍生物之制法 式中R1为C1-7直链烷基,或C3- 4分歧链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2共为聚亚甲基+CH2+4 而可呈环状; R4为C1-7直链烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R5为氢,卤素,C1-4直链烷基或 乙醯,或C4及C5共为聚亚甲基+CH2 +4而可呈环状; R7为氨,甲基,乙基或丙烯基, 此制法乃将如下式卤代嘧啶衍生物 式中R1,R2,R3,R4,及R5同上, X为卤素, 与如下式丙二酸酯衍生物 R7CH(COOR9)2 式中R7同上,R9为低烷基, 在硷之存在下反应后,予以水解及去碳作 用。 17.如下式呲啶基嘧啶基嘧啶衍主物之制法 式中R1为C1-7直链烷基,或C3-4分歧 链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2,共为聚亚甲基+CH2+4 而可呈环状; R4为C1-7直键烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R5为氢,卤素,C1-4直链烷基或 乙醯,或C4及C5共为聚亚甲基+CH2 +4而可呈环状; R6"为C1-7直链烷氧基,C3-4 分歧链烷氢基,C3-5烯氧基,C3-4炔 氧基,2-卤乙氧基,二卤乙氧基,2- 甲氧乙氧基,甲硫基 此制法乃令如下式卤代嘧啶衍生物 式中R1,R2,R3,R4及R5同上,X 为卤素, 与如下式硷金属化合物反应 R"6Y 式中R'6定上,Y为硷金属原子。 18﹒如下式呲啶基嘧啶衍生物之制法 式中R1为C1-7直链烷基,或C3-4分歧 链烷基; R2及R3可相同或相异,各为氢,甲 基,或R1与R2共为聚亚甲基+CH2+4 而可呈环状; R4为C1-7直链烷基,异丙基,环 己基,甲氧甲基或甲硫甲基; R'6为氢, 此制法乃将如下式卤代嘧啶衍生物还原 式中R1,R2,R3,R4及R5同上,X为卤素。
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