| 主权项 |
1.具下通式之醚化合物与具光学异构物 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 ,卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级卤烷氧基,低级烯基,低级烯氧基,或 R1与R1二者合并形成次甲二氧基,低 级次烷基,次乙基氧基或低级烷化次乙氧 基团;R3为氢或氟原子;R4为氢,卤 素原子,低级烷基,低级卤烷基,低级烷 氧基,或低级卤烷氧基;m为1或2之整 数;Y为氧或硫原子,或为式-CM2- ,-NH-等,Z为氮原子或式-CH= 。2.如申请专利范围第1项所述之醚化合物与 其光学异构物,在此,R1与R2可相同 或不同,化表氢或卤素原子,低级烷基, 低级卤烷基,低级烷氧基,低级卤止烷氧 基,或R1与R2二者合并形成次甲二氧 (代)基,或三次甲基;R3为氢或氟原 子;R4为整数1:Y为氧原子或式-N H-;且Z为具-CH=之基团。3.如申请专利范围第1项所 述之醚化合物与 其光学异构物,在此,R1为氟,氯,溴 原子,低级烷基,低级卤烷基,低级卤化 烷氧基或三氟甲基;R2为氢原子;R3 为氢或氟原子;R4系在对一位,代表- 氢,氟,氯,溴原子,甲基或三氟甲基; m为整数1:Y为氢原子:Z为式-CH =之基团。4.具下式之化合物5.具下式之化合物6.具 下式之化合物7.具下式之化合物8.具下式之化合物 9.具下式之化合物10.具下式之化合物11.具下式之 化合物12.具下式之化合物13.具下式之化合物14.具 下式之化合物15.具下式之化合物16.具下式之化合 物17.具下式之化合物18.具下式之化合物19. 如申请 专利范围第4项所述之化合物, 在此,此化合物是具(+)旋光性之光学活 性异构物。20.具下通式之醇化合物 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级烷氧基,低级卤化烷氧基,低级烯基, 低级烯氧基,或R1与R2二者合并形成 次甲二氧(代)基,低级次烷基,次乙氧 基,或低级烷次乙氧基。21. 如申请专利范围第20项 所述之醇化合物 ,在此R1与R2可相同或不同,代表氢 或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级烷氧基,低级卤烷氧基,低级烯基,低 级烯氧基或二者合并形成次甲二氧(代) 基或次三甲基。22.如申请专利范围第20项所述之 醇化合物 ,在此,R1为氢,氟,氯或溴原子,低 级烷基,低级烷氧基,低级卤烷氧基或三 氟甲基;R2为氢原子。23.具下式之化合物24.具下式 之化合物25.具下式之化合物26.具下式之化合物27. 具下式之化合物28.具下式之化合物29.具下式之化 合物30.具下式之化合物31.具下式之化合物32.具下 式之化合物33.具下式之化合物34.具下式之化合物 35.具下式之化合物36.具下式之化合物 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级烷氧基,低级卤化烷氧基,低级烯基, 低级烯氧基,或R1与R2二者合并形成 次甲二氧(代)基,低级次烷基,次乙氧 基或低级烷化次乙氧基;为氢或氟原子; R4为氢或卤素原子,低级烷基,低级卤 烷基,低级烷氧基,或低级卤烷氧基;m 为整数1或2;Y为氧或硫原子或式-C H2-,-NH-;Z为氮原子或式-C H=,此系以具下式之化合物。 在此,R4,m,Y与Z具加上述相同意 义,且X为氯或溴原子,与具下式之醇化 合物起反应, 在此,R1与R2其如上述相同意义,此 系在卤之存在下起反应。37.一种杀虫且/或杀恙虫 组成份,此含有 如申请专利范围第1项所述具有杀虫且/ 或杀恙虫活性成份且为有效量之醚化合物 ,此亦含有惰性载体。38.如申请专利范围第37项所 述之杀虫且/ 或杀恙虫组成份,而其醚化合物是根据请 求专利部份第2项所述之化合物。39.如申请专利范 围第37项所述之杀虫且/ 或杀恙虫组成物,其醚化合物是根据请求 专利部份第3项所述之化合物。40. 如申请专利范 围第1项所述之醚化合物 之用途,系充当杀虫剂且/或杀恙虫剂。41.一种控 制昆虫且/或恙虫之方法,此含 有用如请求申请专利范围第1项所述之杀 虫且/或杀恙虫有效量之醚化合物在昆虫 与恙虫上。42. 一种如申请专利范围第41项所述之 控制 方法,该醚化合物是根据请求专利部份第 2项所述之化合物-。43. 一种申请专利范围第41项 所述之控制方 法,该醚化合物是根据请求专利部份第3 项所述之化合物。44.一种制备下式之醇化合物之 方法 在此,R1与R2可具有相同或不同之基 团,此代表氢或卤素原子,低级烷基,低 级卤烷基,低级烷氧基,低级烯基,低级 烯氧基,或R1与R2二者合并形成次甲 二氧 (代) 基,低级次烷基,次己氧基, 低级烷化次乙氧基,此含有以下式之化合 物与还原剂起反应。 在此,R1与R2具如上述之定义。45.一种具下式之醛 化合物 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级烷氧基,低级卤烷氧基,低级烯基,低 级烯氧基,或R1与R2合并形成次甲二 氧(代)基,低级次烷基,次乙氧基,或 低级烷氧次乙氧基。46. 如申请专利范围第45项所 述之醛化合物 ,在此R1与R2可相同或不同,为氧或 卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低级 烷氧基,低级卤烷氢基,低级烯基,低级 烯氧基成R1与R2二者合并形成次甲二 氧基,或次三甲基。47. 如申请专利范围第45项所述 之醛化合物 ,在此,R1为氢,氟,氯,溴原子,低 级烷基,低级烷氧基,低级卤化烷氧基或 三氟甲基;R2为一氢原子。48.具下式之化合物49.具 下式之化合物50.一种产制下通式之醛化合物之方 法 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 ,低级烷基,低级烷氧基,或R1与R2 二者合并形成次甲二氧 (代) 基,低级次 烷基,次乙氧基或低级烷氧次乙氧基,此 包含水解具下通式之化合物与硷行加热反 应。 在此,R1'与R2'具如上述相同意义 ,具R5为低级烷基。51.一种产制具下通式之醛化合 物之方法: 在此,R1'与R2'可相同或不同,代 表氢,低级烷基或低级烷氧基,或R1与 R2二者合并形成次甲二氧 (代) 基,低 级烯基,次乙氢基或低级烷化次乙氢基, 此含以下通式之化合物 (在此,R1'与R2'之定义如上述) 与具下通式之化合物起反应 XCH2COOR5 在此,X为卤素原子且R5为低级烷基, 水解具下通式之反应产物,此系与硷混合 ,再加热而得, 在此,X为卤素原子且R5具如上述相同 意义。52.一种产制下通式醛化合物之方法, 在此,R1与R2可相同或不同,代表一 氢或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基, 低级烷氧基,低级烯基,低级烯氧基,或 R1与R2二者合并形成次甲二氢 (代) 基,低级次烷基,次乙氧基,或低级烷化 次乙基,此包含与酸水解下通式之化合物 。 在此,R1与R2具有如上述相同意义。53.一种产制下 通式醛化合物之方法 在此,R1与R2可相同或不同,代表氢 或卤素原子,低级烷基,低级卤烷基,低 级烷氧基,低级卤烷氧基,低级烯基,低 级烯氧基,或R1与R2二者合并形成次 甲二氧 (代) 基,低级次甲基,次乙氧基 ,或低级烷化次乙氢基,此包含以其下通 式之化合物。 (在此,R1与R2具有如上述相同意义 ) 与甲氧甲基三苯甲鏻氯化物在硷之存在下 起反应,接着与酸水解上述所得而其下式 之反应产物: 在此,R1与R2具有如上述之相同意义 。 |
