| 发明名称 |
RESIST PATTERN FORMING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0243553(A) |
申请公布日期 |
1990.02.14 |
| 申请号 |
JP19880192770 |
申请日期 |
1988.08.03 |
| 申请人 |
FUJI XEROX CO LTD |
发明人 |
KURITA HIROYUKI;KOBAYASHI TOYOJI |
| 分类号 |
G03F7/095;H01L21/027;H01L21/768 |
主分类号 |
G03F7/095 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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