发明名称 薄膜形成体及其制造方法
摘要 本发明提供对水不溶性,难溶性的化合物粒子之薄膜形成体,及其制造方法。上述化合物粒子在可氧化还原的表面活性剂胶束溶液中胶体分散,以电气化学方式析出,成为薄膜化。在应用方面,发明滤色材料,光记录媒体,电子摄影感光体,以及非线形变换元件。1988年4月30日在日本申请专利第63-108726号1988年7月12日在日本申请专利第63-174102号1988年7月13日在日本申请专利第63-175610号1988年7月28日在日本申请专利第63-189201号1988年7月28日在日本申请专利第63-189202号1988年10月6日在日本申请专利第63-252524号1988年10月7日在日本申请专利第63-253043号1988年10月13日在日本申请专利第63-257819号1988年10月25日在日本申请专利第63-268507号1988年11月18日在日本申请专利第63-291497号1988年11月19日在日本申请专利第63-283418号1988年11月26日在日本申请专利第63-299039号1989年1月11日在日本申请专利第1-004038号1989年1月31日在日本申请专利第1-021505号1989年1月31日在日本申请专利第1-021509号
申请公布号 TW129697 申请公布日期 1990.03.01
申请号 TW078102736 申请日期 1989.04.12
申请人 精工艾普逊股份有限公司 发明人 大野好弘;松岛文明;野濑保人;迹部光朗
分类号 B05C9/00 主分类号 B05C9/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项
地址 日本