| 主权项 |
1﹒将含氧高氟聚物薄膜沉积于一适当基材上 之方法,其包括有:(a)将该基材导入 一密闭反应室中;(b)将该反应室抽真 室;(C)将惰性载体气体与一含氧氟碳 单体进料气导入反应室中;且(d)等离 子态聚合该进料气体,使聚合之单体薄膜 沉积于该基材上;其中该单体系一择自包 含下列群中的化合物:具结构式之醇类: R─C─OH具结构式之醚类:具结构式 之环氧类:具结构式之遇氧化物类:R─ O─O─R其中至少一R定义为一含有至 少1至9个碳的过氟化之直链或支链或环 状饱和烷基,而其余的R基为择自包括下 列之群中:氢,直链或支链或环状饱和烷 基,氟代的直链或支链或环状饱和烷基, 过氟化的直链或支链或环状饱和烷基;以 及各个该等烷基可选择性地合有一个或多 个醇,醚,过氧化物或环氧化物官能度。 2﹒依据申请专利范围第1项所述之方法,其 中该单体系择自包括七氟丁醇,五氟二甲 基酸,全氟氧化丙烯,以及双(三氟甲基 )过氧化物之群中。 3﹒根据申请专利范围第1项所述之方法,其 中该单体是七氟丁醇。 4﹒依据申请专利范围第1项所述之方法,其 中该基材系择自包括玻璃、塑胶及金属之 群中。 5﹒依据申请专利范围第1项所述之方法,其 中该氟聚物薄膜系以一大约为1,000 埃/分钟之速率进行沉积1至60分钟。 6﹒依据申请专利范围第1项所述之方法,其 中该惰性载体气体为氩或氦。 7﹒一结构物其包括一基材及一藉由含氧氟碳 单体之等离子态聚合沉积于该基材上之含 氧氟聚物薄膜。图示简单说明 第1图为一速率曲线,显示七氟丁醇HF B薄模沉积速率对一长时间下之一致性。 |
