发明名称 一种制备低碳含量之二醯亚胺矽之方法
摘要 本发明系揭示一种制备低碳含量之二醯亚胺矽之方法,其是在压力下,将氨与用烃类稀释之氯化矽烷反应,此方法是在质量流量密度高于100kg/㎡s下完成,反应温度至少为5℃,产物在至少100℃下,于真空中乾燥。
申请公布号 TW153596 申请公布日期 1991.03.11
申请号 TW079103151 申请日期 1990.04.19
申请人 赫斯化工公司 发明人 白汉斯;佛利克;克劳斯
分类号 C07H 主分类号 C07H
代理机构 代理人 蔡中曾 台北巿敦化南路一段二四五号八楼
主权项 1﹒一种制备低碳含量之二醯亚胺矽之方法,其是将氨在压力下与用甲苯稀释,其通式SiHnCl4─n之氯化矽烷反应,其中n是0,1,2或3,其特征在(a)将含甲苯之液态氯化矽烷混合液,在质量流量密度为1000至4000kg/m^2s(活@蛫鴭韝J口截面)下,导入含有液态氨之反应容器,(b)在1╮@秘隃悻砭J温度下,反应得到二醯亚胺矽,及(c)经液态氨冲活@~后,在100至160℃,于真空中,将二醯亚胺矽乾燥。
地址 德国