| 主权项 |
1﹒正向操作光敏感组成物,其包括一种光敏感化合物,一种不溶于水,但溶于硷性水溶液或可于其中膨胀之结合剂,及一种染料,其中该染料包括一种非消感性化合物,该化合物可吸收光化范围光线且如通式式中R1表示氢,C1─C3烷基,苯基,(C1─C3)烷氧基或─CN﹒R2与R3为相同或相同异者,且表示氢,羟基(C1─C3)烷基,(C6─C10)芳基,(C1─C3烷氧基,(C6─C10)芳氧基,─CN胺基,(C1─C3)烷胺基或卤素,R4,R5,R6与R7为相同或相异者,且表示氢,羟基,(C1─C3)烷基,(C6─C10)芳基,(C1─C3)烷氧基,(C6─C10)芳氧基,胺基,(C1─C3)烷胺基或卤素。2﹒如申请专利范围第1项之光敏感组成物,其中该染料具有一个吸收尖峰,该尖峰系于水银蒸气灯之放射范围内。3﹒如申请专利范围第1或2项之光敏感组成物,其中该染料之吸收尖峰为365nm至436nm之范围内。4﹒如申请专利范围第1或2项之光敏感组成物,其中以一种邻二叠氮化物作为光敏感化合物。5﹒如申请专利范围第1或2项之光敏感组成物,其中以光解性酸给予体与合有一个C─O─C基团之酸可分解化合物组合作为光敏感化合物。6﹒如申请专利范围第5项之光敏感组成物,其中以有机卤化物作活@陞悕妡警驮怵憿C7﹒如申请专利范围第1或2项之光敏感组成物,其中以一种酚醛清漆缩合树脂作为结合剂。8﹒如申请专利范围第7项之光敏感组成物,其中硷可溶性酚醛清样缩合树脂,以可达20重量%之比例,与其他树脂类混合。9﹒如申请专利范围第1或2项之光敏感组成物,其中光敏感组成物包括一种交联剂。10﹒一种根据影像反转法之立体图样制法,该方法基本上包括之步骤为,将如申请专利范围第9项之光敏感组成物涂布于一种支撑物上,经乾燥,影像曝光,且使涂布层适当地再烘烤,其中利用光化射线进行完全再曝光。11﹒正向操作光敏感纪录介质,基本上包括一种支撑物与一层光敏感层,其中该介质包括一种以如申请专利范围第1或2项之组成物作为光敏感层。 |
