发明名称 监测热及辐射暴露影响的方法
摘要 本发明提供一种监测热及辐射能对电气和结构材料影响之方法,其包含测量模型化学反应系统的进展。此化学反应系统是使用阿雷尼厄思( Arrhenius )速率定律来选择的,而此定律将反应的速率及其活化能和暴露温度联成关系。所用特别化学反应系统之选择,是以能与期望的暴露条件和测量间的时间长短相配合为原则。
申请公布号 TW161208 申请公布日期 1991.06.21
申请号 TW080100014 申请日期 1991.01.02
申请人 西屋电器公司 发明人 史帝芬.哈洛德.皮特森;阿诺得.希尔.菲洛;荷伯特.安卓.伯格曼;罗杰.布莱尼.史克瑞伯
分类号 G01K11/00 主分类号 G01K11/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种产生校正数据,以供监测热能对具有能的环境中预选定物质之电子、结构或其它种预选择物理性质的影响的方法,此方法包括下列步骤:决定该物质欲监测的期间;使用阿雷尼厄思(ARRhenius)速率定律,以选择至少一种在暴露于该环境中之热能,经历该期间后,令产生可测量反应的化学化合物,将此物质及该化学化合物暴露于热能中;及定期记录该化学化合物反应的程度及此物质预选择物理性质。2﹒根据申请专利范围第1项之方法,更包含确定在核子反应器中欲监测的物质。3﹒一种监测辐射能对具有辐射能的环境中预选定物质之电子、结构或其它预选择物理性质的影响的方法,此方法包括下列步骤决定该物质欲监测的期间;使用阿雷尼厄思速率定律,以选择至少一种在暴露于该环境中之转射能,经历该期后,可产生可测量反应的化学化合物,将该化学化合物量入该环境中测量该化学化合物在该期间后的反应程度;及藉由比较该化学化合物反应的程度与该反应程度与该物质之预选定物理性质有关的校正数据,而决定该物质在经辐射能暴露该期间后之预选定物理性质。4﹒根据申请专利范围第3项的方法,更包含提供在暴露于辐射能时,会进行分解反应之化学化合物。5﹒根据申请专利范围第3项的方法,更包含提供在暴露于辐射能时,会进行异构化反应的化学化合物。6﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包括在化学化合物量入该环境前,使此化学化合物化学键结至聚合物载体上。7﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包括在化学化合物量入该环境前,将此化学化合物溶解于溶剂中。8﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包括将此化学化合物放在光学基质上。9﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包括将此化学化合物放在光学纤维上。10﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包括将此化学化合物放在CircleCell的内反射棒上。11﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包包含以装在容器中的溶液提供此化学化合物。12﹒根据申请专利范围第3项之方法,更包含使用光谱学测量此化学化合物反应的程度。13﹒一种产生校正数据以供监测辐射对在具有辐射能的环境中预选定物质之电子、结构、或其它预送定物理性质的影响的方法,此方法包括下列步骤:决定该物质欲监测的期间;使用阿宙尼厄思速率定律以选择至少一种在暴露于该环境中之辐射能,经历该期间后,会产生可测量反应的化学化合物;定期记录该化学化合物之反应程度及此物置之顶选择物理性质。14﹒根据申请专利范围第13项之方法,更包含确定核子反应器中欲监测的物质。图示简单说明图1是本发明方法所用监测装置的具体例。
地址 美国