发明名称 对阿尔伐(a)辐射不灵敏之六电晶体互补金氧半导体记忆单元
摘要 本发明系关于包括六电晶体互补金氧半导体记忆单位之积体记忆器,为使各单元对阿尔伐辐射不灵敏计,一值约为70千欧姆之电阻系插接于每一反相器之P通导金氧半导体电晶体( PMOS - transistor,下文简称 PMOS电晶体)之汲极与N通道金氧半导体电晶体( NMOStransistor,下文简称NMOS电晶体)之汲极之间。该单元已予双交叉耦合:一在P侧而另一在N侧。该电阻系认知为聚矽氧烷轨道,亦即为该单元之P+及N+扩散区间之互连轨道。
申请公布号 TW161273 申请公布日期 1991.06.21
申请号 TW079104587 申请日期 1990.06.05
申请人 飞利浦电泡厂 发明人 法兰斯.杰卡伯.利斯
分类号 H01L27/11 主分类号 H01L27/11
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种系积合于一半导体基体上且包括互补金电半导体记忆单元之矩阵之记忆器,各记忆单元系排列成行及成列,而每一单元包括两交叉再生耦合之反相器,每一反相器包串联连接于两电源供给接头间之一PMOS电晶体、一电阻及一NMOS电晶体,其所具之特征在于NMOS电晶体之闸极系交叉连接于NMOS电晶体之汲极,PMOS电晶体之闸极系交叉连接于PMOS电晶体之汲极,而且至少有一金电半导体电晶体之汲极系经由另一金氧半导体电晶体而连至一数元线路。2﹒根据申请专利范围第1项之积体半导体记忆器,其中PMOS电晶体与NMOS电晶体之汲极间之电阻所具之电阻値高于50千欧姆。3﹒根据申请专利范围第1项之积体半导体记忆器,其中至少记忆单元之NMOS电晶体之大小属次微米范围。4﹒根据申请专利范围第2项之积体半导体记忆器,其中至少记忆单元之NMOS电晶体之大小属次微米范围。5﹒根据申请专利范围第2项之积体半导体记忆器,其中该电阻値约等于75千欧姆。6﹒根据申请专利范围第1.2.3.4或5项之积体半导体记忆器,其中之该电阻系在聚矽氧烷互接轨道内获得,而该互接轨道系将基体上各P区内之诸NMOS之汲极接至基体上各n区内诸PMOS电晶体之汲极。图示简单说明图1所示为根据本发明之6电晶体全互补金氧半导体sRAM(静态随机接连记忆器)单元,及图2所示为灵敏度对扰乱作为电阻値函数之图。
地址 荷兰