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ESTA RELACIONADA CON LA FORMULACION DE UNA FOTORESINA DE TIPO NEGATIVO, QUE PUEDE SER APLICADA EN LA PRODUCCION DE CIRCUITOS IMPRESOS EN LA INDUSTRIA ELECTRONICA. CONSISTE EN LA OBTENCION DE UNA FORMULACION, BASADA EN UNA RESINA DE ALCOHOL FURFURILICO SINTETIZADA EN MEDIO ACIDO, LA CUAL POSEE PROPIEDADES FOTOSENSIBLES ANTE LA EXPOSICION A LA LUZ ULTRAVIOLETA. LA COMPOSICION CUMPLE CON TODOS LOS REQUISITOS QUE SE EXIGEN PARA EL USO PRACTICO DE LAS FOTORESINAS EN LA INDUSTRIA ELECTRONICA; EL ALCOHOL FURFURILICO SE OBTIENE A PARTIR DEL FURFURAL Y LA SINTESIS DE LA FOTORESINA ES SENCILLA. NO REQUIERE DE UN SENSIBILIZADOR ADICIONAL, AUNQUE ES COMPATIBLE CON ALGUNOS DE ELLOS./!
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