| 主权项 |
1﹒一种下式I胺基伸甲基氰乙酸酯或醯胺式中R1及 R2系分别为苯基、 基、联苯基、5─或6─员杂芳基其具有1或2个氮原 子,或1个氧原子 ,或1个氮原子及1个氧原子,其可以苯并融合,亦可 将这些基以1至3 个C1至C4烷基、C1至C5烷氧基、卤素原子、氰基、 羟基、或下式 之基:COOR3.COR3.CONMR3.OCOR3.或NHCO R2加以取代且其中R3系C1至C4─烷基、C5至C6环烷基 或苯基 ,R4系C2至C8伸烷基而可中间插入不邻接氧原子,或 为C4至C1 2─伸烯烃基或为C4至C12─伸炔烃基而不饱和键为 不邻接至酯原子 氧之上,或为C5至C5─环伸烷基或伸苯基,且系O或NH 。 2﹒根据申请专利范围第1项所述之胺基伸甲在氰 乙酸酯或醯胺I,其中R1 及R2别为苯基其可以一或二个下列基取代:C1至C4─ 烷基,C1至 C5─烷氧基、氯原子、氰基、羟基或式COOR3基,其 中R3具有上 述意义,或啶基或2─嘧啶基,其各系可以一或二 个C1至C1─烷基 取代。 3﹒根据申请专利范围第1项之胺基伸甲基氰乙酸 酯或醯胺I,其中X系C2 至C12─伸烷基,其中n系1至5,1,4─伸丁─2─烯,1,4─ 伸─丁─2─炔、C6至C8─环伸烷基或伸苯基﹒4﹒ 根据申请专利范 围第1项之胺基伸甲基氰乙酸酯或醯胺I之制法,其 包括以式II之氰乙 酸酯:其中X及Y具有上述意义,与2当量具式R1─NH2或 R2─N H2之芳香族或杂芳香条胺,其中R1及R2具有上述意义 ,和至少2当 量之原甲酸三烷酯起反应。 5﹒一种有机物质,其包含化妆品、药剂、塑料与 表面涂料前驱体及塑料与表 面涂料本身经安定化以对抗光,氧及热之作用,且 含有以有机物质之用量 为基准之0﹒01至5重量%之一种或多种如申请专利 范围第1项之胺基 伸甲基氰乙酸酯或醯胺I。 6﹒一种用以保护人类皮肤免于遭受光作用之化妆 品制剂,其以化妆品制剂之 用量为基准,含有0﹒1至10重量%之一种或多种如申 请专利范围第1 项之胺基伸甲基氰乙酸酯或醯胺I作为防晒剂。 7﹒一种用以安定包含化妆品、药剂、塑料与表面 涂料前驱体及塑料与表面涂 料本身之有机物质之方法,该方法包含使用如申请 专利范围第1项之胺基 伸甲基氰乙酸酯或缩胺I。 8﹒一种用以保护人类皮肤免于遭受光作用之方法 ,该方法包含使用含有申请 专利范围第1项之胺基伸甲基氰乙酸酯或醯胺I之 化妆品制剂作为防晒剂 。 |
