发明名称 环烷基及氮杂环烷基╳咯嘧啶,新颖种类之GABA脑受体配位体
摘要 本发明包含下式之化合物CC及其医药上可接受之非毒性盐式中n为0,1或2且R1,R2,X,Y及W为可变的对GABA脑受体或其先驱药物而言,这些化合物为高选择性激动剂,拮抗剂或逆向激动剂并可用于诊断及治疗焦虑,睡眠,疾病发作,苯并二氮( benzodiazepine )之药物过量及提高警敏性。
申请公布号 TW219937 申请公布日期 1994.02.01
申请号 TW081102740 申请日期 1992.07.24
申请人 神经能质公司 发明人 安德烈.特伍卡夫;艾伦.胡克森;威诺德.塞吉
分类号 C07D487/04;C07D487/20;C07D491/20 主分类号 C07D487/04
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1﹒一种从具有至少一种具它DET异构物之进 料混合物中分离3,5-或2,6-二乙 基甲苯(DET)的方法,此方法包括在吸附 条件下使该进料混合物与选自下列族群之 吸附剂接触:A)以钾阳离子交换之X沸石 ;B)以钠或铜交换之X沸石或以铜、钠、 钡或钙交换之Y沸石;及C)以钡或锂或以 钾及钡交换之X沸石或以钾、钠、钡或钙 交换之Y沸石,因而选择性地吸附于进料 中所含之一种DET异构物;与该吸附剂接 触后移走至少一种相对非吸附之DET异构 物,以形成残液流并使所得富吸附剂在脱 附条件下,与含沸点至少与进料混合物成 份相差5℃之单环烷基取代芳烃之脱附剂 进行脱附作用以成萃取液流而回收该吸附 之DET异构物,其中该吸附与脱附条件包 括20℃至200℃之温度范围及足以维持液 相之压力。 2﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中进 料含3,5-DET,其中吸附剂选自群A, 其中吸附之异构物为3,5-DETA其中萃 取液流富含此异构物而残液流相对于进料 已无此异构物。 3﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中进 料含3,5-DET,其中该吸附剂选自群B ,脱附剂则选自对二乙基苯、间二乙基苯 及甲苯,其中吸附异构物为2,6-DET及 其中萃取液流富含此异构物而残液流相对 于进料已无此异构物。 4﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中进 料含3,5-DET,其中该吸附剂选自群C ,其中非吸附异构物为3,5-DET及其中 残液流富含此异构物而排出流相对于进料 已无之此异构物。 5﹒根据申请专利范围第3项之方法,其中该 吸附剂为Na-Y,而该脱附剂包括对二乙 基苯。 6.根据申请专利范围第3项之方法,其中该 吸附剂为Ba-Y,而该脱附剂包含对二乙 基苯或甲苯。 7﹒根据申请专利范围第3项之方法,其中该 吸附剂为Ca-Y,而该脱附剂包含间二乙 基苯。 8﹒根据申请专利范围第1项之方法,其中该 脱附剂系选自甲苯、对二乙基苯、间二乙 基苯、对二甲苯及对异丙基甲苯。 9﹒根据申请专利范围第4项之方法,其中该 脱附剂系选自对二乙基苯、间二乙基苯、 甲苯及对二甲苯。 10﹒根据申请专利范围第1至9项中任一项 之方法,其中该方法可模拟移动床流动系 统来进行。 11﹒根据申请专利范围第1至9项申任一项 之方法,其中该脱附剂系选自直链烷烃、 异烷烃、醚及卤化烃之稀释剂。
地址 美国
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