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发明名称 PLASMA PROCESSING APPARATUS, ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND ELECTRODE PLATE MANUFACTURING METHOD
摘要
申请公布号 EP1594161(A4) 申请公布日期 2008.10.22
申请号 EP20040707620 申请日期 2004.02.03
申请人 OCTEC INC.;TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 OKUMURA, KATSUYA;HIMORI, SHINJI;NAGASEKI, KAZUYA;MATSUMARU, HIROKI;MATSUYAMA, SHOICHIRO;TAKAHASHI, TOSHIKI
分类号 H05H1/46;B01J19/08;C23C14/00;C23F4/00;C25D17/10;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
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