发明名称 |
隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件 |
摘要 |
本发明涉及一种隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件。本发明提供的隔片形成用放射线敏感性树脂组合物即使是用实质上不含有350nm以下的波长的放射线曝光也可容易形成高分辨率、高灵敏度且图形形状、压缩强度、研磨耐性、与透明基板的密着性等诸性能优良的隔片。隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征是含有以下成份:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐和、(a2)含有环氧基不饱和化合物和、(a3)其他的不饱和化合物的共聚物、[B]聚合性不饱和化合物、[C]双咪唑系化合物、[D]具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂,以及[E]具有二烷基氨基的化合物和/或[F]硫醇系化合物。 |
申请公布号 |
CN100428027C |
申请公布日期 |
2008.10.22 |
申请号 |
CN200510000493.X |
申请日期 |
2005.01.11 |
申请人 |
JSR株式会社 |
发明人 |
一户大吾;山田义隆;岩渊智子;西尾寿浩;西川通则 |
分类号 |
G02F1/1339(2006.01);G02F1/133(2006.01);G03F7/027(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1339(2006.01) |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.隔片形成用放射线敏感性树脂组合物,其特征是含有以下成份:[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)含有环氧基不饱和化合物和(a3)从丙烯酸烷基酯、甲基丙烯酸烷基酯、丙烯酸的脂环族酯、甲基丙烯酸的脂环族酯、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸芳基酯、马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯、丙烯酸羟基烷基酯、甲基丙烯酸羟基烷基酯、芳香族乙烯基化合物、丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、亚氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、醋酸乙烯、1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、N-环己基马来酰亚胺、N-苯基马来酰亚胺、N-苄基马来酰亚胺、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺苯甲酸酯、N-琥珀酰亚胺基-4-马来酰亚胺丁酸酯、N-琥珀酰亚胺基-6-马来酰亚胺己酸酯、N-琥珀酰亚胺基-3-马来酰亚胺丙酸酯和N-(9-吖啶基)马来酰亚胺中选出的化合物的共聚物100重量份、[B]相对于100重量份[A]共聚物为30~200重量份的2官能以上的(甲基)丙烯酸酯、[C]相对于100重量份[A]共聚物为0.1~50重量份的双咪唑系化合物、[D]相对于100重量份[A]共聚物为1~50重量份的具有羰基的放射线敏感性聚合引发剂,以及[E]相对于100重量份[A]共聚物为0.1~50重量份的具有二烷基氨基的化合物和/或[F]相对于100重量份[C]双咪唑系化合物为0.1~50重量份的硫醇系化合物,并且,[C]双咪唑系化合物用下述通式(1)或者通式(2)表示,<img file="C2005100004930003C1.GIF" wi="598" he="510" />式中,X表示氢原子、卤原子、氰基、碳数1~4的烷基或碳数6~9的芳基,A表示-COO-R,其中,R表示碳数1~4的烷基或碳数6~9的芳基,n是1~3的整数,各m是1~3的整数,<img file="C2005100004930003C2.GIF" wi="620" he="533" />式中,X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>相互独立地表示氢原子、卤原子、氰基、碳数1~4的烷基或碳数6~9的芳基,但是,X<sup>1</sup>、X<sup>2</sup>及X<sup>3</sup>的2个以上不能同时作为氢原子。 |
地址 |
日本国东京都 |