| 发明名称 | 利用长程溅射制作液晶取向膜的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种利用长程溅射制作液晶取向膜的方法，其包括将一基底置于一反应室内的一基底乘座上，再利用一高密度等离子体轰击设于基底上方的一靶材，以产生一溅射物质，同时于反应室内提供一偏压，以使溅射物质提供一近似垂直的溅射方向，且溅射物质依此溅射方向沉积于基底表面以形成一液晶取向膜，其中靶材与基底间的距离大于20厘米。 | ||
| 申请公布号 | CN100427639C | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
| 申请号 | CN200510074786.2 | 申请日期 | 2005.06.03 |
| 申请人 | 联诚光电股份有限公司 | 发明人 | 官大双;张逸明;林佳德;詹佳璁 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C23C14/06(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种利用长程溅射制作液晶取向膜的方法，该方法包括：将一基底置于一反应室内的一基底乘座上；利用一高密度等离子体轰击设于该基底上方的一靶材，以产生一溅射物质；以及于该反应室内提供一偏压，以使该溅射物质提供一近似垂直的溅射方向，且该溅射物质依此溅射方向沉积于该基底表面以形成一液晶取向膜；其中该靶材与该基底间的距离大于20厘米。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区 | ||