发明名称 |
一种微纳深沟槽结构测量装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种微纳深沟槽结构测量装置,包括红外光源、干涉仪、探测光路、样品台、接收光路、探测器、放大器、滤波器、模数转换器和计算机;红外光源、干涉仪和探测光路依次位于同一光路上,探测光路的出射光与样品台的上表面法线之间的夹角为45°,接收光路与样品台上表面法线之间的夹角为45°,探测器位于接收光路的出光口,探测器、放大器和滤波器依次相连,滤波器通过模数转换器与计算机连接。本实用新型装置,可实现动态随机存储器(DRAM)上电容器典型深沟槽结构的测量,具有非接触性,非破坏性和低成本的特点。 |
申请公布号 |
CN201138196Y |
申请公布日期 |
2008.10.22 |
申请号 |
CN200720087376.6 |
申请日期 |
2007.09.29 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
刘世元;史铁林;张传维;顾华勇;沈宏伟 |
分类号 |
G01B11/22(2006.01);G01B11/02(2006.01);G01B11/06(2006.01);G01R27/26(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
G01B11/22(2006.01) |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 |
代理人 |
曹葆青 |
主权项 |
1、一种微纳深沟槽结构测量装置,其特征在于:该装置包括红外光源(21)、干涉仪(22)、探测光路(23)、样品台(24)、接收光路(25)、探测器(26)、放大器(27)、滤波器(28)、模数转换器(29)和计算机(30);红外光源(21)、干涉仪(22)和探测光路(23)依次位于同一光路上,探测光路(23)的出射光与样品台(24)的上表面法线之间的夹角为45°,接收光路(25)与样品台(24)上表面法线之间的夹角为45°,探测器(26)位于接收光路(25)的出光口,探测器(26)、放大器(27)和滤波器(28)依次相连,滤波器(28)通过模数转换器(29)与计算机(30)连接;红外光源(21)出射光经过干涉仪(22)进入探测光路(23),经探测光路(23)校准后,入射到位于样品台(24)上的样品表面,然后从样品上反射的带有沟槽结构信息的光束进入接收光路(25),接收光路(25)将发散光束变成平行光束出射至探测器(26);探测器(26)将光信号转换为电信号,再经放大器(27)放大后送入滤波器(28),滤波器(28)进行滤波,去除杂散信号,再经过模数转换器(29)送入计算机(30)进行处理。 |
地址 |
430074湖北省武汉市洪山区珞瑜路1037号 |