发明名称 | 带靶材的靶座 | ||
摘要 | 1.本外观设计产品为连接了真空镀膜靶材的靶座。该产品用在真空镀膜装置中,以在如基材和硅片之类的目标物体上形成金属薄膜。2.后视图与主视图相同,省略后视图。3.左视图与右视图相同,省略左视图。 | ||
申请公布号 | CN300841707D | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
申请号 | CN200730154189.0 | 申请日期 | 2007.08.30 |
申请人 | 株式会社爱发科 | 发明人 | 进藤孝明;中村肇;石野耕司;宇佐美达巳;松田麻也子 |
分类号 | 22-04 | 主分类号 | 22-04 |
代理机构 | 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 尹洪波 |
主权项 | |||
地址 | 日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地 |