| 发明名称 | 钎焊x射线管靶的发射层 | ||
| 摘要 | 钎焊x射线管靶的发射层。一种用于产生x射线的靶，包括：包含至少一层靶材料的靶衬底(84)、包含至少一层轨迹材料的轨迹(86)、通过高能量电子撞击到设定的轨迹上而产生x射线的该轨迹、以及将靶衬底(84)附着到该轨迹的钎焊接头(88)。 | ||
| 申请公布号 | CN101290858A | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
| 申请号 | CN200810100339.3 | 申请日期 | 2008.04.18 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | G·A·施泰因拉格;M·赫伯特 |
| 分类号 | H01J35/08(2006.01);H01J35/10(2006.01) | 主分类号 | H01J35/08(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 蒋骏;王小衡 |
| 主权项 | 1.一种用于产生x射线的靶，包括：包括至少一层靶材料的靶衬底(84)；包括至少一层轨迹材料的轨迹(86)，该轨迹被配置为通过高能量电子撞击到其上而产生x射线；以及钎焊接头(88)，将所述靶衬底(84)附着到所述轨迹(86)。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||