发明名称 | 角度分解散射仪和检验方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种角度分解散射仪和一种检验方法,其中在角度分解散射仪中,设置孔板,所述孔板包括至少一个遮挡部分,所述遮挡部分延伸入光瞳平面的像中。根据在所述遮挡部分的像的最内点和光瞳的像的名义中心之间的径向距离确定目标图案的离焦量的值。通过在多个不同离焦位置上采用参考板捕捉多个用于进行归一化的像并从目标图案的测量光谱中减去合适的用于进行归一化值,而对离焦误差进行补偿。 | ||
申请公布号 | CN101290479A | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
申请号 | CN200810092261.5 | 申请日期 | 2008.04.17 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 埃瑞·杰弗里·登勃夫 |
分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王文生 |
主权项 | 1.一种角度分解散射仪设备,所述设备被配置用于确定与通过用于在衬底上制造器件层的光刻工艺而被印刷到衬底上的目标图案的参数相关的值,所述设备包括:光学系统,包括具有物平面和光瞳平面的高数值孔径物镜,所述光学系统设置用于将第一辐射束引导到目标图案上,收集由所述目标图案反射或散射的辐射,并对第二辐射束进行投影,以在像平面中形成物镜的光瞳平面的像;检测器,位于像平面中,并设置用于将入射到其上的辐射转换成散射仪光谱;以及孔部件,位于第二辐射束的路径中且在与所述物镜的光瞳平面不相重合的位置上,所述孔部件限定至少一个遮挡部分,所述至少一个遮挡部分延伸入所述第二辐射束中预定的距离,以便在光瞳平面的像中形成暗区域。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |