| 发明名称 | 具有均匀磁场分布的自适应耦合等离子体源和具有该等离子体源的等离子体室 | ||
| 摘要 | 公开了具有均匀磁场分布的自适应耦合等离子体源。该自适应耦合等离子体源包括：在反应室的中心区域设置于反应室上方的平板形衬套；多个上部线圈，从所述衬套伸出以被设置于该反应室的上方，以便螺旋状地围绕所述衬套；以及在所述反应室侧壁部分的周围设置以围绕该反应室的多个侧部线圈。 | ||
| 申请公布号 | CN101292332A | 申请公布日期 | 2008.10.22 |
| 申请号 | CN200680039192.0 | 申请日期 | 2006.10.20 |
| 申请人 | 自适应等离子体技术公司 | 发明人 | 金南宪 |
| 分类号 | H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李春晖;杨红梅 |
| 主权项 | 1.一种自适应耦合等离子体源，包括：平板形衬套，在反应室的中心区域设置于反应室上方；多个上部线圈，从该衬套伸出以设置于该反应室的上方，以便螺旋状地围绕所述衬套；以及多个侧部线圈，设置在所述反应室的侧壁部分的周围，以围绕在所述反应室的外周。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||