具低电阻功能和以可穿透的导电层为最外层的抗反射涂层

摘要

一种具低电阻功能和以可穿透的导电层为最外层的抗反射涂层，该抗反射涂层表层的物质为一可穿透的表面导电层，该可穿透的表面导电层的光反射率低于0.5％，该抗反射涂层的阻抗介于每平方米0.5Ω与0.7Ω之间，且其穿透率为55％至70％。

主权项

1. 一种具低电阻功能和以可穿透的导电层为最外层的抗反射涂层，其特征在于，包括有：一基板；一第十五层，设置在该基板的一前表面，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于20nm和40nm间；一第十四层，设置在该第十五层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第十三层，设置在该第十四层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第十二层，设置在该第十三层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第十一层，设置在该第十二层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第十层，设置在该第十一层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第九层，设置在该第十层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第八层，设置在该第九层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第七层，设置在该第八层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第六层，设置在该第七层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第五层，设置在该第六层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第四层，设置在该第五层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；一第三层，设置在该第四层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于30nm和80nm间；一第二层，设置在该第三层上，其由一低折射率的金属物质所构成，物理厚度介于8nm和12nm间；以及一第一层，设置在该第二层上，其由一高折射率的氧化物所构成，物理厚度介于20nm和40nm间；其中该第一层、第三层、第五层、第七层、第九层、第十一层和第十三层由SnO:Sb所构成，该第二层、第四层、第六层、第八层、第十层、第十二层和第十四层由银所构成，该第十五层由TiO2所构成。