基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供一种基本处理装置及基板处理方法，在向曝光装置搬送基板时，使用接口用搬送机构的上侧的手部，在搬送从曝光装置被搬出的基板时，使用接口用搬送机构的下侧的手部。在将由曝光装置的曝光处理后的基板搬送到干燥处理部时，使用第五机械手下侧的手部，在搬送从干燥处理部被搬出的干燥处理后的基板时，使用第五机械手上侧的手部。即，使用上侧的手部搬送未附着液体的基板，使用下侧的手部搬送附着了液体的基板。

主权项

1. 一种基板处理装置，以相邻于曝光装置的方式配置，该曝光装置是通过液浸法对基板进行曝光处理的装置，其特征在于，该基板处理装置具有：处理部，其对基板进行处理；交接部，其用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接，上述处理部包括对基板进行干燥处理的第一处理单元，上述交接部包括：载置部，其暂时载置基板；第一搬送单元，其在上述处理部和上述载置部之间搬送基板；第二搬送单元，其在上述载置部和上述曝光装置之间搬送基板；第三搬送单元，其在上述载置部和上述第一处理单元之间搬送基板，上述第二搬送单元具有保持基板的第一保持部和第二保持部，上述第二搬送单元，在从上述载置部向上述曝光装置搬送基板时由上述第一保持部保持基板，在从上述曝光装置向上述载置部搬送基板时由上述第二保持部保持基板，上述第三搬送单元具有保持基板的第三保持部和第四保持部，上述第三搬送单元，在从上述第一处理单元向上述载置部搬送基板时由上述第三保持部保持基板，在从上述载置部向上述第一处理单元搬送基板时由上述第四保持部保持基板。