| 发明名称 | 防护薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种防护薄膜，即使将该防护薄膜贴附在掩模上，也不会损害到掩模的平坦度。本发明的防护薄膜的特征是，该防护薄膜的框架的掩模贴附侧的平坦度在30μm以下，且该防护薄膜的框架的防护薄膜侧的平坦度在15μm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101281362A | 申请公布日期 | 2008.10.08 |
| 申请号 | CN200810083165.4 | 申请日期 | 2008.03.07 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 白崎享 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1、一种防护薄膜，其用于半导体光刻，其特征在于，该防护薄膜框架的贴附于掩模的一侧的平坦度在30μm以下，并且，该防护薄膜框架的防护薄膜侧的平坦度在15μm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||