发明名称 |
伺服控制装置以及伺服系统的调整方法 |
摘要 |
本发明涉及一种NC装置,特别提供一种伺服控制装置以及其调整方法,廖伺服控制装置用二维图像显示伺服系统的控制精度的评价,利用可见方法能够进行伺服系统的调整。控制装置具有:指示具有周期性的位置指令的指令机构;存储利用对上述位置指令的伺服系统位置反馈的位置数据的履历的机构;以及将上述位置反馈的位置数据和其1/4周期前或1/4周期后的数据或根据其1/4周期前或1/4周期后的上述位置指令的位置数据作为正交两轴的各自轴数据描绘在由上述正交两轴构成的二维平面上的第1描绘机构。 |
申请公布号 |
CN100424602C |
申请公布日期 |
2008.10.08 |
申请号 |
CN200610008222.3 |
申请日期 |
2006.02.16 |
申请人 |
发那科株式会社 |
发明人 |
岩下平辅;秋山隆洋;丹羽正一 |
分类号 |
G05B19/4068(2006.01);G05B19/4069(2006.01) |
主分类号 |
G05B19/4068(2006.01) |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 |
代理人 |
张敬强 |
主权项 |
1. 一种控制装置,其特征在于,具有:指示具有周期性的位置指令的指令机构;记录针对上述位置指令的伺服系统的位置反馈的位置数据的履历的机构;将上述位置反馈的位置数据和上述位置反馈的位置数据的1/4周期前或1/4周期后的位置数据或根据上述位置指令的位置数据的1/4周期前或1/4周期后的位置数据作为正交两轴的各自的轴数据描绘在由上述正交两轴构成的二维平面上的第1描绘机构;将根据上述位置指令的位置数据和上述位置指令的位置数据的1/4周期前或1/4周期后的数据作为上述正交两轴的各自的轴数据重叠描绘在上述二维平面上的第2描绘机构;以及具有调整机构,该调整机构将上述第2描绘机构描绘的形状作为评价基准,进行上述伺服系统的调整,使得上述第1描绘机构描绘的形状接近该评价基准的形状。 |
地址 |
日本山梨县 |