| 发明名称 | 单/多晶硅薄膜及其组件的制备装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型主要涉及薄膜的制备设备。一种单/多晶硅薄膜制备装置，包括有真空镀膜机，其主要特点是还包括有在真空罐(3)内设有的工件车(2)的内侧固连有磁控溅射机构(6)，包括有靶盘(61)，磁控器(62)；在真空罐(3)上设有氩气入口(9)。本实用新型的有益效果是，由于组件中各膜层沉积都是在同一真空室体中进行，在保证光电转换效率的同时可以节省大量的时间，且根据不同工艺，利用该实用新型可以在计算机控制下连续完成光电转换组件的生产，因此便于工业化自动化硅膜及组件生产。 | ||
| 申请公布号 | CN201128779Y | 申请公布日期 | 2008.10.08 |
| 申请号 | CN200720126102.3 | 申请日期 | 2007.10.09 |
| 申请人 | 兰州大成自动化工程有限公司;兰州交通大学 | 发明人 | 范多旺;范多进;令晓明;姚小明;孔令刚;王成龙 |
| 分类号 | C30B35/00(2006.01);C30B23/00(2006.01);C30B25/00(2006.01);C30B29/06(2006.01) | 主分类号 | C30B35/00(2006.01) |
| 代理机构 | 兰州振华专利代理有限责任公司 | 代理人 | 张真 |
| 主权项 | 1.一种单/多晶硅薄膜及其组件的制备装置，包括有真空镀膜机，其特征是还包括有在真空罐(3)内设有的工件车(2)的内侧固连有磁控溅射机构(6)，磁控溅射机构(6)包括有靶盘(61)，磁控器(62)；在真空罐(3)上设有氩气入口(9)。 | ||
| 地址 | 730070甘肃省兰州市安宁西路88号 | ||