发明名称 氟化气体消除装置及消除方法
摘要 本发明所述的消除氟化系列气体的装置和方法,是有关于在使用氟化系列气体的电脑或者是半导体等尖端产业装置的配置制造及洗涤过程中,被未反应的氟化系列气体所污染的气体通过高温,大容量的等离子体火焰中,利用热分解或者是等离子化学反应消除氟化系列气体污染源的装置及方法。
申请公布号 CN101279187A 申请公布日期 2008.10.08
申请号 CN200710090415.2 申请日期 2007.04.06
申请人 严桓燮 发明人 严桓燮
分类号 B01D53/70(2006.01);B01D53/74(2006.01);H05H1/00(2006.01);B01J19/12(2006.01);F23G7/06(2006.01) 主分类号 B01D53/70(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 顾晋伟;刘继富
主权项 1. 氟化气体消除装置,包含:从电源供应部接受电力而发振电磁波的电磁管;传送从上述电磁管发振的电磁波,吸收往电磁波反射的反射波的循环器;监控通过上述循环器传送的电磁波强度为入射波和反射波的方向性结合器;对从上述方向性结合器流入的电磁波,调节入射波和反射波强度来符合电阻的短线调节器;从上述短线调节器传送的电磁波流入的导波管;贯通上述导波管来相结合,被通过上述导波管输入的电磁波及从外部注入的涡流气体来产生等离子体气体的放电管;连接在上述放电管一端,往上述放电管提供涡流气体的供应部;布置在放电管内,为了在上述放电管内产生等离子体而提供初期电子的点火部;及与上述放电管另一端相连接,向在上述放电管内生成的等离子体提供燃料及废气体的燃料及废气供应部。
地址 韩国京畿道龙仁市