| 发明名称 | 用于湿制程设备上方排气的液气分离结构 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种用于湿制程设备上方排气的液气分离结构，其形成在一湿制程设备的一上方排气口上，其包含一集水沟槽与一水流管路，该集水沟槽环设在该上方排气口与该湿制程设备的接缝处，以让该集水沟槽承接由该上方排气口滴落的回滴水，该水流管路的一端连接该集水沟槽的低处位置，该水流管路的另一端朝低处延伸且设置在该湿制程设备之外，据而让该上方排气口凝结滴落的回滴水经由该集水沟槽的承接与该水流管路的排放，而避免成为湿制程设备内的污染源。 | ||
| 申请公布号 | CN201130283Y | 申请公布日期 | 2008.10.08 |
| 申请号 | CN200720183482.4 | 申请日期 | 2007.12.06 |
| 申请人 | 均豪精密工业股份有限公司 | 发明人 | 李天立;邱炳彰;钟玉华 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01);H05K3/00(2006.01);B05B15/00(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01) |
| 代理机构 | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 章社杲;吴贵明 |
| 主权项 | 1.一种用于湿制程设备上方排气的液气分离结构，其形成在湿制程设备(10)的上方排气口(20)上，其特征在于，包含：集水沟槽(30)，所述集水沟槽(30)环设在所述上方排气口(20)与所述湿制程设备(10)的接缝处，并使所述上方排气口(20)的下缘处(21)正对所述集水沟槽(30)；水流管路(40)，所述水流管路(40)的一端连接所述集水沟槽(30)的低处位置，所述水流管路(40)的另一端朝低处延伸且设置在所述湿制程设备(10)之外。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹县 | ||