| 发明名称 | 相位差测量方法及装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够准确地确定存在散射、吸收或消除偏振光的试样的相位差的方法。该方法为根据依次配置有光源、偏振器、试样、检偏器和分光器的光学系中测量到的分光光谱确定该试样的相位差的方法，包括以下过程：准备没受该试样的相位差影响的该试样的分光光谱数据；对使该偏振器的透射轴、该试样的光学轴和该检偏器的透射轴的配置为检测该试样的相位差的配置而测量的至少一个分光光谱进行测量；用上述分光光谱数据修正上述分光光谱。 | ||
| 申请公布号 | CN101281092A | 申请公布日期 | 2008.10.08 |
| 申请号 | CN200810091808.X | 申请日期 | 2008.04.03 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 网盛一郎;小畑史生;高桥弘毅 |
| 分类号 | G01M11/02(2006.01);G02F1/13(2006.01);G01N21/17(2006.01) | 主分类号 | G01M11/02(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 徐冰冰 |
| 主权项 | 1.一种根据依次配置有光源、偏振器、试样、检偏器和分光器的光学系中测量到的分光光谱确定该试样的相位差的方法，包括以下过程：准备未受该试样的相位差影响的该试样的分光光谱数据；对使该偏振器的透射轴、该试样的光学轴和该检偏器的透射轴的配置为检测该试样的相位差的配置而测量的至少一个分光光谱进行测量；用上述分光光谱数据修正上述分光光谱。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||