发明名称 带靶材的靶座
摘要 1.本外观设计产品为连接了真空镀膜靶材的靶座。该产品用在真空镀膜装置中,以在如基材和硅片之类的目标物体上形成金属薄膜。2.后视图与主视图相同,省略后视图。3.左视图与右视图相同,省略左视图。
申请公布号 CN300837578D 申请公布日期 2008.10.08
申请号 CN200730154188.6 申请日期 2007.08.30
申请人 株式会社爱发科 发明人 进藤孝明;中村肇;石野耕司;宇佐美达巳;松田麻也子
分类号 22-04 主分类号 22-04
代理机构 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人 尹洪波
主权项
地址 日本国神奈川县茅崎市萩园2500番地