发明名称 |
辐射敏感组合物和可成像材料 |
摘要 |
一种辐射敏感组合物,包括含羧基的可自由基聚合的组分、产生自由基的引发剂组合物、包含聚环氧烷烃链段和选择性的氰基侧基的聚合的粘合剂。该组合物可用于制备可成像元件如负性工作的可在机显影的印刷版前体。 |
申请公布号 |
CN101283311A |
申请公布日期 |
2008.10.08 |
申请号 |
CN200680028684.X |
申请日期 |
2006.07.21 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
S·萨赖亚;H·M·蒙内利;F·E·米克尔;K·D·维兰 |
分类号 |
G03F7/027(2006.01);G03F7/029(2006.01);G03F7/033(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/027(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
赵苏林;范赤 |
主权项 |
1.一种辐射敏感组合物,包含:可自由基聚合的组分,引发剂组合物,其能够在暴露于成像辐射时产生足以引发所述可自由基聚合的组分聚合的自由基,以及聚合的粘合剂,其中所述聚合的粘合剂具有憎水骨架,并含有以下a)和b)的重复单元中的两者,或仅b)重复单元:a)具有直接连接到所述憎水骨架上的氰基侧基的重复单元,和b)包含聚环氧烷烃链段的重复单元,以及其中所述可自由基聚合的组分包含羧基。 |
地址 |
美国纽约州 |