| 发明名称 | 一种微针的制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种微针的制作方法，涉及采用IC制程的微针的制作方法。传统的微针制作工艺步骤较多、制作成本高，且很难制作出纳米针。本发明的方法包括下列步骤：首先提供一基板，并在基板上形成一微针材料层；接着，对微针材料层进行光刻和刻蚀，形成多个柱形微针；以及对柱形微针进行离子轰击，以形成针尖。采用本发明的方法能够实现纳米级别的微针或微针阵列的制作，且方法简单、制作成本较低。 | ||
| 申请公布号 | CN101279714A | 申请公布日期 | 2008.10.08 |
| 申请号 | CN200710039200.8 | 申请日期 | 2007.04.06 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 洪中山 |
| 分类号 | B82B3/00(2006.01);G12B21/02(2006.01) | 主分类号 | B82B3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 王洁 |
| 主权项 | 1. 一种微针的制作方法，其特征在于，包括：a)提供一基板，并在基板上形成一微针材料层；b)对微针材料层进行光刻和刻蚀，形成多个柱形微针；以及c)对所述柱形微针进行离子轰击，以形成针尖。 | ||
| 地址 | 201203上海市张江路18号 | ||