HIGH DENSITY PLASMA-CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION CHAMBER,申请号KR20060135947-传众专利搜索

首页产品黄页商标征信

会员服务注册登录

法人/股东/高管

发明名称	HIGH DENSITY PLASMA-CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION CHAMBER
摘要
申请公布号	KR100861816(B1)	申请公布日期	2008.10.07
申请号	KR20060135947	申请日期	2006.12.28
申请人		发明人
分类号	H01L21/205	主分类号	H01L21/205
代理机构		代理人
主权项
地址

您可能感兴趣的专利

METHOD AND FLUORESCENT METER FOR MONITORING GROWTH OF MICROORGANISM

BOTTLE CAP INSPECTING MACHINE

SCHNELLES OEFFENTLICHES REALZEIT-VERSCHLUESSELUNGSSYSTEM

DIESELMOTOR MIT OBENLIEGENDER NOCKENWELLE

SELECTIVE PITTER FOR FRUITS

FLUORESCENT LAMP

L-ASCORBATE GRANULES

VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON DIMETHYLSUCCINYLOSUCCINAT, DESSEN DINATRIUMSALZ, DIANILINODIHYDROTEREPHTHALSAEUREN, DEREN DIMETHYLESTERN UND SALZEN SOWIE VON DIANILINOTEREPHTHALSAEUREN, DEREN DIMETHYLESTERN UND SALZEN

PACKING LAMINATE

SETT ATT FRAMSTELLA STRENGPRESSADE EMNEN AV FLERA METALLER

Hose connecting piece (fitting)

VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER KATHODEN-DIAPHRAGMA-EINHEIT

BAD ZUR GALVANISCHEN ABSCHEIDUNG VON GOLDUEBERZUEGEN

DICHTUNGSANORDNUNG FUER ZWEI ZUEINANDER BEWEGBARE DURCHGAENGE O.DGL.

DATENVERARBEITUNGSANLAGE MIT CACHE-SPEICHER

STUETZE FUER DAS HANGENDE EINES UNTERIRDISCHEN GANGES

VERFAHREN ZUR SEISMISCHEN UNTERSUCHUNG