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发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
摘要
申请公布号 KR100862018(B1) 申请公布日期 2008.10.07
申请号 KR20040072619 申请日期 2004.09.10
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/023;C08G8/28;G03C1/76;G03F7/022;H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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