| 发明名称 |
Resist collapse prevention using immersed hardening |
| 摘要 |
A method, tool, and machine for hardening a photoresist image while the photoresist image is immersed in a liquid.
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| 申请公布号 |
US2008203322(A1) |
申请公布日期 |
2008.08.28 |
| 申请号 |
US20080150955 |
申请日期 |
2008.05.01 |
| 申请人 |
TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD. |
发明人 |
LIN BURN-JENG;CHANG CHING-YU |
| 分类号 |
G21G5/00 |
主分类号 |
G21G5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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