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经营范围
发明名称
HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS
摘要
申请公布号
KR100854995(B1)
申请公布日期
2008.08.28
申请号
KR20050017420
申请日期
2005.03.02
申请人
发明人
分类号
H01L21/205
主分类号
H01L21/205
代理机构
代理人
主权项
地址
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