发明名称 Vorrichtung und Speichervorrichtung, Verfahren zur Herstellung von Strukturen in einem Werkstück und Verfahren zur Herstellung einer Speichervorrichtung
摘要 <p>Ein Verfahren zur Herstellung von Strukturen in einem Werkstück umfasst das Bereitstellen eines Bereiches einer Deckschicht auf einen vorbestimmten Bereich des Werkstücks, das Bereitstellen einer Resistschicht über dem Werkstück und der Deckschicht und das Erzeugen von Resiststrukturen in der Resistschicht. Das Werkstück wird strukturiert, wobei die strukturierte Resistschicht und die Deckschicht als Ätzmaske verwendet werden. Ein anderes Verfahren zur Herstellung von Strukturen in einem Werkstück umfasst das Bereitstellen einer Resistschicht über dem Werkstück und das Erzeugen von Resiststrukturen in der Resistschicht. Das Werkstück wird strukturiert, wobei die strukturierte Resistschicht als Ätzmaske verwendet wird und Werkstückstrukturen erhalten werden. Die Werkstückstrukturen werden von einem vorbestimmten Bereich des Werkstücks entfernt. Danach wird ein Pitch-Fragmentation-Prozess ausgeführt.</p>
申请公布号 DE102007008934(A1) 申请公布日期 2008.08.28
申请号 DE20071008934 申请日期 2007.02.23
申请人 QIMONDA AG 发明人 KNOEFLER, ROMAN;LUDWIG, CHRISTOPH
分类号 H01L21/768;H01L21/8229;H01L23/52;H01L27/10 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
主权项
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