发明名称 | 信号线的测距方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种信号线的测距方法,搭载至用以制作至少包括第一层面第一信号线及第二层面第二信号线的印刷电路图案的设计软件中,该测距方法先令第一信号线于第二层面生成投影,测定第一与第二层面垂直间距,再分别于第一、第二信号线撷取第一、第二参考点以及于投影撷取投影参考点,测定投影参考点与第二参考点间距,再依据投影参考点与第二参考点间距以及第一与第二层面间距,通过预设运算规则,计算第一与第二参考点间距,最后判断当前第一与第二参考点间距是否允符计算的第一与第二参考点间距,若是,则不修改第一与第二参考点位置,若否,则依据计算的第一与第二参考点间距修改第一与第二参考点位置,如此可对不同层面信号载体间距进行测距。 | ||
申请公布号 | CN101201868A | 申请公布日期 | 2008.06.18 |
申请号 | CN200610169446.2 | 申请日期 | 2006.12.15 |
申请人 | 英业达股份有限公司 | 发明人 | 孙莉丽;范文纲 |
分类号 | G06F17/50(2006.01) | 主分类号 | G06F17/50(2006.01) |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟;王锦阳 |
主权项 | 1.一种信号线的测距方法,搭载至用以制作印刷电路板(PCB)的印刷电路图案的设计软件中,其中,该印刷电路图案中至少包括第一层面的第一信号线及第二层面的第二信号线在内的多个层面及其信号线,该信号线的测距方法包括以下步骤:令该第一信号线于该第二层面生成投影;测定该第一层面与该第二层面垂直间距;于该第一信号线撷取第一参考点、于该第二信号线撷取第二参考点以及于该投影撷取投影参考点;测定该投影参考点与该第二参考点的间距;依据该投影参考点与该第二参考点的间距以及该第一层面与该第二层面的间距,并通过预设的运算规则,计算该第一参考点与该第二参考点的间距,以供获取该第一信号线与该第二信号线的最短间距,以及判断当前的该第一参考点与该第二参考点的间距是否允符该计算出的该第一参考点与该第二参考点的间距,若是,则不进行该第一参考点的位置与该第二参考点的位置的修改,若否,则依据该计算出的该第一参考点与该第二参考点的之间距,修改该第一参考点的位置与该第二参考点的位置。 | ||
地址 | 中国台湾台北市 |