发明名称 液晶显示器件的阵列基板及其制造方法
摘要 本发明公开了一种液晶显示器件的阵列基板的制造方法,该方法包括通过第一掩模工序在基板上形成栅线、栅焊盘、栅极和数据焊盘,在包括栅线、栅焊盘、栅极和数据焊盘的基板的整个表面的实质部分上形成栅绝缘层,在栅绝缘层上形成数据线、源漏图案和有源层并通过第二掩模工序在栅绝缘层内形成栅焊盘接触孔和数据焊盘接触孔,以及通过第三掩模工序形成像素电极、栅焊盘端子、数据焊盘端子、源极、漏极和欧姆接触层,其中所述第三掩模工序还包括形成延伸自数据焊盘端子的透明导电图案,其中所述透明导电图案覆盖并接触所述数据线和源极。
申请公布号 CN100395598C 申请公布日期 2008.06.18
申请号 CN200510126147.6 申请日期 2005.11.30
申请人 LG.菲利浦LCD株式会社 发明人 曹基述;崔荣锡;安炳龙;黄太雄;闵东俊;丁辅径
分类号 G02F1/133(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 G02F1/133(2006.01)
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人 徐金国;祁建国
主权项 1.一种液晶显示器件的阵列基板的制造方法,包括:通过第一掩模工序在基板上形成栅线、栅焊盘、栅极和数据焊盘;在包括栅线、栅焊盘、栅极和数据焊盘的基板的整个表面上形成栅绝缘层;在栅绝缘层上形成数据线、源漏图案和有源层并通过第二掩模工序在栅绝缘层内形成栅焊盘接触孔和数据焊盘接触孔;以及通过第三掩模工序形成像素电极、栅焊盘端子、数据焊盘端子、源极、漏极和欧姆接触层,其中所述第三掩模工序还包括形成延伸自数据焊盘端子的透明导电图案,其中所述透明导电图案覆盖并接触所述数据线和源极。
地址 韩国首尔