| 发明名称 | 清除化学机械抛光刷上残留物的方法 | ||
| 摘要 | 一种清除清洗刷上残留物的方法，包括下列步骤：在控片上形成氧化硅层；将化学机械抛光刷置于控片上；化学机械抛光刷刷洗氧化硅层，清除化学机械抛光刷上的附着物。经过上述步骤，能彻底清除化学机械抛光刷上的附着物的同时不会产生其它附着物。 | ||
| 申请公布号 | CN101200048A | 申请公布日期 | 2008.06.18 |
| 申请号 | CN200610147319.2 | 申请日期 | 2006.12.15 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 魏红建;马智勇 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24B29/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1.一种清除化学机械抛光刷上残留物的方法，其特征在于，包括下列步骤：在控片上形成氧化硅层；将化学机械抛光刷置于控片上；化学机械抛光刷刷洗氧化硅层，清除化学机械抛光刷上的附着物。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||