首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 NEGATIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SILICON KOH ETCH WITHOUT USING SILICON NITRIDE HARDMASK
摘要
申请公布号 EP1932060(A1) 申请公布日期 2008.06.18
申请号 EP20060803089 申请日期 2006.09.07
申请人 BREWER SCIENCE, INC. 发明人 ZHONG, XING-FU;LI, CHENGHONG;MALHOTRA, JYOTI, K.
分类号 G03F7/004;G03F7/027;G03F7/075 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com