发明名称 图像位置测量装置及曝光装置
摘要 本发明提供一种图像位置测量装置,其具备摄影组件和修正组件,其中,摄影组件具有摄像元件及/或透镜,用于测量在工件上形成的基准标记的位置,修正组件修正所述摄像元件及/或透镜的变形。曝光装置具有图像位置测量装置和曝光组件,该曝光组件基于图像数据将所述工件进行曝光,所述图像数据通过基于由图像位置测量装置拍摄的所述基准标记的位置信息进行修正而得到。能够避免由于摄像元件和透镜的变形所带来的影响,提高工件上附带的基准标记的位置测量精度。
申请公布号 CN101203810A 申请公布日期 2008.06.18
申请号 CN200680022259.X 申请日期 2006.06.13
申请人 富士胶片株式会社 发明人 上村宽;福井隆史
分类号 G03F9/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);G01B11/00(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱丹
主权项 1.一种图像位置测量装置,其具备:摄影组件,其包括摄像元件及/或透镜,用于测量在工件上形成的基准标记的位置;修正组件,其修正所述摄像元件及/或透镜的变形。
地址 日本国东京都