| 发明名称 | 多层结构以及在其中绘制微观结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种多层结构，当其温度超过预定的阈值时其体积变化；一种微观结构绘制方法，包括将激光束发射到多层结构上以在束斑以内引起温度分布，并在具有温度高于阈值的束斑的一部分上执行微观记录；一种光盘母盘；一种使用多层结构的母盘制作方法，其中，多层结构包括基板和在该基板上形成的变形层，其中，当被激光束辐射的变形层的一部分的温度超过预定温度时，这部分的体积变化。微观结构绘制方法包括将激光束发射到变形层的预定区域上，并将被激光束辐射的变形层的区域加热到超过预定的温度，从而被加热的区域会发生体积变化。 | ||
| 申请公布号 | CN100395834C | 申请公布日期 | 2008.06.18 |
| 申请号 | CN200480008410.5 | 申请日期 | 2004.05.21 |
| 申请人 | 三星电子株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 | 发明人 | 金朱镐;朴仁植;桑原正史;富永淳二;岛隆之 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;冯敏 |
| 主权项 | 1.一种多层结构，包括：基板；变形层，形成在所述基板上，所述变形层包括由合金和介电材料制成的合金介电层，其中，当被激光束辐射的所述变形层的一部分的温度超过预定温度时，其体积变化。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市 | ||