| 摘要 |
使用数道雷射束来选择性地照射一半导体基板(240)之上或之内结构的机器来决定该半导体基板(240)以及该半导体基板(240)之上或之内的数个雷射束光点的相对位置之系统(700A、700B、800)。该系统(700A、700B、800)包括雷射源(220、720)、第一雷射束传播路径与第二雷射束传播路径、第一反射感测器与第二反射感测器(798、853)以及处理器(680)。该雷射源(220、720)产生至少该等第一雷射束与第二雷射束,其分别沿着该等第一雷射束传播路径与第二雷射束传播路径朝该基板传播,该等第一雷射束传播路径与第二雷射束传播路径分别具有第一轴与第二轴,其分别在第一光点与第二光点与该基板相交。该等反射感测器(798、853)被放置以侦测在该等光点相对于该基板移动时该等光点的反射,从而产生反射讯号。该处理器(680)被配置以依据该等反射讯号来决定该基板(240)之上或之内的该等光点位置。 |
