发明名称 非挥发性半导体记忆装置及其制造方法
摘要 一种非挥发性半导体记忆装置,包括具有主表面的半导体基板(SB)、复数记忆电晶体(MT)以及复数选择电晶体(ST)。复数记忆电晶体(MT)分别具有在主表面上互相积层形成的浮闸(FG)以及控制闸(CG)。复数选择电晶体(ST)分别具有在主表面上互相积层形成的下侧闸极层(G2)以及上侧闸极层(G1),且与复数记忆电晶体(MT)之一共同包含在记忆单元(MC)内。下侧闸极层(G2)被复数选择电晶体(ST)各个分离。上侧闸极层(G1)由复数选择电晶体(ST)共有,且电气连接至复数选择电晶体(ST)的各下侧闸极层(G2)。因此,可以防止选择电晶体ST与记忆电晶体MT之间的短路。
申请公布号 TW200826244 申请公布日期 2008.06.16
申请号 TW096137035 申请日期 2007.10.03
申请人 瑞萨科技股份有限公司 发明人 石井元治;原清彦
分类号 H01L21/8247(2006.01);H01L27/115(2006.01) 主分类号 H01L21/8247(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本