| 摘要 |
一种基板处理装置,系包含有:基板保持单元,用来将基板保持为大致水平,使该基板围绕大致铅直之旋转轴线旋转;处理液供给单元,用来对被上述基板保持单元保持之基板供给处理液;第1导引部,包围上述基板保持单元之周围,具有朝向上述旋转轴线延伸之上端部,用来导引从利用上述基板保持单元进行旋转之基板飞散之处理液,以使该处理液流下;第2导引部,包围上述第1导引部之外侧之上述基板保持单元之周围,具有朝向上述旋转轴线延伸之上端部,该上端部被设置成与上述第1导引部之上端部在上下方向重叠,用来导引从利用上述基板保持单元进行旋转之基板飞散之处理液,以使该处理液流下;第3导引部,包围上述第2导引部之外侧之上述基板保持单元之周围,具有朝向上述旋转轴线延伸之上端部,该上端部被设置成与上述第2导引部之上端部在上下方向重叠,用来导引从利用上述基板保持单元进行旋转之基板飞散之处理液,以使该处理液流下;第1回收沟,与上述第1导引部成为一体地设在上述第1导引部之外侧,用来回收被导引到上述第2导引部之处理液;第2回收沟,与上述第1导引部成为一体地设在上述第1回收沟之外侧,用来回收被导引到上述第3导引部之处理液;和驱动机构,用来使第1、第2及第3导引部互相独立地升降。 |
