发明名称 | 唯读记忆体及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种唯读记忆体。该唯读记忆体包括一半导体层、一电极及一设置于该电极及该半导体层间之隔离层,该隔离层包括于该半导体层表面依次设置之一第一绝缘层、一载流子存储层及一第二绝缘层,且该载流子存储层包括复数具有界面陷阱之薄膜层。该唯读记忆体有效增加电荷陷阱,提高记忆窗値。本发明同时提供了一种该唯读记忆体之制造方法。 | ||
申请公布号 | TW200826293 | 申请公布日期 | 2008.06.16 |
申请号 | TW095146230 | 申请日期 | 2006.12.11 |
申请人 | 群创光电股份有限公司 | 发明人 | 颜硕廷 |
分类号 | H01L29/78(2006.01);H01L21/8246(2006.01);G02F1/13(2006.01) | 主分类号 | H01L29/78(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | |||
地址 | 苗栗县竹南镇新竹科学园区科学路160号 |